PRODUCT

產品中心

云顶彩票平台注册 ? 產品中心 ? CVD鍍膜設備 ? PECVD系列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備

PECVD-300型等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
編號:SN20151013154839762
類別:PECVD系列等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術,在光學玻璃、硅云顶彩票平台注册、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅云顶彩票平台注册、非晶硅和微晶硅等薄膜,用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

     

    設備組成

        該系統主要由真空反應室云顶彩票平台注册云顶彩票平台注册、上蓋組件云顶彩票平台注册云顶彩票平台注册、熱絲架、基片加熱臺云顶彩票平台注册、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成云顶彩票平台注册。

留言咨詢 (* 為必填項目)
* 姓名
* 內容
* 驗證碼
 
QQ在線咨詢
在線QQ客服
3249891528
咨詢熱線
024-23826855
云顶彩票平台注册