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MOCVD鍍膜設備
編號:SN20150801153530518
類別:MOCVD鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        主要應用于化合物半導體材料的研究和生產,為當今世界上生產半導體光電器件和微波器件材料的主要手段,如激光器、發光二極管、高效太陽能電池、光電陰極等的制備,是光電子等產業不可缺少的設備。

     

    設備組成

        設備主要由反應室、進樣室、樣品傳遞機構、氣路系統、電控系統、計算機系統等組成。

     

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